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玻璃抛光法 浮法玻璃抛光技术

发布时间:2016/6/16

浮法抛光指被抛光玻璃与拋光模保持有厚度数倍于抛光粉颗粒尺寸的液体层,换言之,玻璃 在几微米液厚的拋光液薄层上进行拋光,其装置如图17-39所示,玻璃浸在抛光液中,整个拋光 装置放在精密回转台上,以60〜200r/miri速度回转。

浮法抛光采用抛光模比常用沥青或树脂更硬的材料如锡制成,在质地优良的锡盘上车出一 系列宽1〜2mm、深1mm左右的同心圆环,再用金刚石车床修整抛光盘面形,由金刚石车刀刀 尖作用,拋光盘面上形成了对浮法拋光十分重要的精细螺纹结构,如图17-40所示。玻璃与抛光 模之间相对速度很大,达1.5〜2.5m/s,抛光过程中由于离心力、液槽壁、环带及锡盘的精细螺 纹的共同作用,抛光盘与玻璃之间形成薄层液膜,将玻璃托起,拋光剂在离心力作用下,在液膜 内沿径向不断碰撞玻璃表面,以原子或分子级抛除玻璃表面。抛光粉用Cr203或MgO细粉,抛 光粉的颗粒度要小,最好为纳米级,一般小于20nm,玻璃与抛光模之间压力较一般抛光压力高 十几倍。

对熔融石英玻璃、硼硅酸盐玻璃、低膨胀微晶玻璃,如Coming的ULE和Schott的Zerodur 均可用浮法抛光,抛光后玻璃表面的均方粗糙度尺ms可小于0。 2nm。抛光表面粗糙度随抛光时间 的增加而减少,如硼硅酸盐玻璃浮法抛光20min,粗糙度为0。7nm,抛光40min,粗糙度减少到 0。 3nm;零膨胀微晶玻璃抛光40min时粗糙度为0。7nm,抛光40mm,减少到0。 2nm。

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